IONPURE VNX 55-HCEDI電気脱イオンシステム10 m³/h高硬度水研磨システム

Ionpure VNX 55-HHは電気脱イオンシステムであり、高硬度給水のために設計され、2 ppmまでのCaCO硬度を受け入れることができる₃上流軟化はありません。定格流量は10 m³/h（44 gpm）で、輸送可能、＞16 MΩ・cmの製品抵抗率、水回収率は80-90%で、酸とアルカリの再生を除去した。発電所のボイラーに水と工業過程の水を補給するために設計されている。

水研磨用の電気脱イオンシステムとは？

電気脱イオンシステムは、直流電界、イオン交換膜及び混合床樹脂を用いて逆浸透浸透浸透液中の溶解イオンを連続的に除去する。それは水研磨工程として、化学再生混合床脱イオン器の代わりに、危険処理を行わずに高純水を生産する。

CEDI技術では、標準モジュールは、スケールを防止するために軟化または非常に硬度の低いフィードを必要とする。VNX 55-HHはCEDIモジュールに耐えるための専用の高硬度耐性モジュールであり、内部は最適化され、総硬度が2 ppm（CaCOで計算）に達する片道逆浸透物上で信頼性のある運転が可能である。（提供/人民網日本語版・編集/KP）。（提供/KP）。（提供/KP）。（提供/KP₃).これにより、発電および産業用蒸気ユーザーのための直接適用可能な水研磨ソリューションとなり、これらのユーザーの中で、給水硬度は典型的なCEDI制限を超えている。

主な仕様

公称製品流量：10 m³/h（44 gpm）

製品の水抵抗率：amp ;>；16 MΩ·cm

硬度公差（CaCOで計算）₃):≤2.0 ppm

給水伝導率：amp ;lt；40µS/cm

給水温度範囲：5-45°C（41-113°F）

給水圧力範囲：1.4～7バール（20～100ポンド/平方インチ）

遊離残留塩素耐性：amp ;lt ; 0.02 ppm（Clで計算する₂)

給水シリカ（SiO₂):amp；lt；1.0 ppm

水回収率：80-90%

動作電流範囲：2.0～13.2 A

シリカ（SiO₂)取り外し：amp ;90%より大きい

モジュールサイズ（直径×長さ）：44.45 cm×213.3 cm（17.5インチ×84インチ）

最高周囲温度：45°C（113°F）

接続タイプ：50 mm突合せ溶接ポリプロピレン（PP）フランジ接続

認証：CEマーク、ISO 9001：2015とISO 14001：2015メーカー施設認証、ハラール認証

密封技術：貫通孔ガスケット設計

技術的な特長

耐硬度内部設計は、軟化することなく2 ppmまでの供給硬度を受け入れることができる。工場エンジニアの一般的な問題の1つは、硬度が2 ppmに近い場合、片道逆浸透浸透液がCEDIモジュールに直接供給できるかどうか--VNX 55-HHはこのような状況のために設計されている。

無化学物質の連続再生は酸とアルカリの処理を除去した。電気脱イオンシステムは、通常運転中にその樹脂を電気化学的に再生する。バルク化学品の貯蔵、中和タンクまたは樹脂交換計画を必要とせず、工場の安全リスクと人工労働を大幅に低減した。

再循環精鉱流により、VNX 55−HHは10〜20%の供給材料のみを廃棄物に供給する。10 m³/hのモジュールでは、1 ~ 2 m³/hの廃水は、大量の化学廃棄物を発生させる従来のイオン交換再生サイクルに比べて大幅にコストを節約できることを意味している。

貫通孔ガスケットシールは、コンパートメント間の漏れを防止することができる。この設計により、マルチコンパートメントモジュールの抵抗率の低下を引き起こす可能性のある内部リークが回避される。

各モジュールには、DC電源との電気的接続を簡素化し、デバッグ時間を短縮するために、工場に設置されたラベル電源ケーブル付きの配線ボックスがあります。

アプリケーション

発電所高圧ボイラ給水補給：生産と、gt；60〜180バール蒸気ボイラーの補給水は16 MΩ・cmである。

工業蒸気発生と熱電併産施設：ボイラーと熱回収蒸気発生器セットにシリコンフリー、低導電率の水を提供する。シリカ除去剤、

石化と製油所のプロセス用水：触媒補給、洗浄塔供給とプロセス希釈のために高い純水を提供し、分類区域で酸/アルカリ再生剤システムを使用する必要はない。

連合循環発電所の水処理：多段逆浸透前処理と結合し、普通水精処理システムの窒素酸化物制御と蒸気循環補給に連続的な精処理水を提供する。

老朽化した混合床研磨機を交換する：既存の逆浸透浸透ラインを使用して、既存の脱イオンユニットを化学物質のない電気脱イオンシステムにアップグレードし、操作員の硫酸と水酸化ナトリウムへの接触を減らす。

選択ガイド

適用可能なアプリケーション：

給水の総硬度はCaCOで常に0.1 ~ 2.0 ppmである₃,特に片道逆浸透で軟化しない

発電と工業蒸気のユーザーニーズ、gt ; 16 MΩ・cm製品水、そのうち18 MΩ・cm抵抗率は不要

現場の危険化学品や廃棄物を中和して水処理することを目的とした施設

プロジェクトの流量需要は5 m³/h以上から、複数のVNX 55-HHモジュールを並列接続することで200 m³/h以上に拡張できる

使用することは推奨されません：

ホウ素とシリカ除去剤を含む18 MΩ・cmの超純水回路、＞99%。半導体またはマイクロエレクトロニクス用途では、18 MΩ・cmとアンペアを保証するIonpure VNX 55-EXを選択し、ホウ素／シリカ除去率＞99%。

給水硬度が2.0 ppmを超える（CaCOで計算）₃.原水または逆浸透浸透物がこの制限を超える場合は、上流に軟水器を設置するか、耐硬度の逆浸透膜前処理設計を考慮してください。

2 m³/hの連続流量未満の小型研磨回路が必要である。深さ調整下でVNX 55−HHを操作すると、流量分配のばらつきが生じ、樹脂寿命が短くなる。小さいアプリケーションでは、Ionpure LXまたはIP-LXMシリーズモジュールを選択します。

よくある質問

1.VNX 55-HHモジュールで処理できる最大硬度はいくらですか。

VNX 55-HHは2.0 ppmまでのCaCO全硬度を受け入れることができる₃どんどん。これにより、ほとんどの市政および地表水用途では、軟水器を必要とせずに、片道逆浸透浸透浸透物から直接供給することができる。

VNX 55-HHは半導体超純水システムに適していますか？

いいえ、半導体用途にはVNX 55-EXをお勧めします。VNX 55−HH生産増幅器、> ; 16 MΩ・cm、アンプを除去する、＞90%のシリカであり、半導体研磨には18 MΩ・cmの抵抗率とアンペアが必要である。＞99%のシリカとホウ素の除去率。

3.VNX 55-HH電気脱イオンシステムのコストはいくらですか。

VNX 55-HHモジュールの価格は通常、プロジェクトの規模や構成に応じて25000～40000ドルです。価格は為替レート、関税、工場調整によって変動する。正確なオファーが必要な場合は、北京众平科技に直接連絡してください。

4.購入前にパイロットテストを行ったり、CEDIモジュールをリースしたりすることはできますか。

我々はVNX 55-HHモジュールを備えた予備組立スキッドを用いて予備試験を行い、製品の水質、回収率と実際の給水の硬度公差を確認した。北京众平科学技術協調試験の設置と性能検証。

取消不能信用状（一覧信用状）と電信為替（T/T）を受け取ります。多モジュール資本プロジェクトについて、北京众平科技は信用評価後にマイルストーンに基づく支払スケジュールを提供する。

6.VNX 55-HHモジュールの納入サイクルはどのくらいですか。

標準工場の納期は8～10週間です。現地の在庫を持つ地域ディストリビュータは、3～4週間以内に出荷できる場合があります。

7.VNX 55-HHの前に必要な前処理は何ですか。

給水は導電性を有する逆浸透浸透浸透水でなければならない。lt ; 40µS/cm、硬度amp ;₃,遊離塩素lt ; 0.02 ppm、温度は5-45°Cの間である。標準的な前処理は片道逆浸透、紫外線脱塩素、5µmフィルターカートリッジ濾過、柔軟剤は必要ありません。

8.VNX 55-HHの水回収率と廃品量はいくらですか。

モジュールは80〜90%の水回収率で動作する。公称10 m³/hの製品流量の下で、排出流量は1.1-2.5 m³/hである。硬度の高い給水は回収範囲の下限に傾いて、スケールを防止する。

9.起動とデバッグのサポートを提供していますか。

デルは、整合性テスト、DC電源設定、オペレータトレーニングなど、各サイトの最初のモジュールインストールに対して工場の監督起動を提供しています。

10.VNX 55-HHモジュールの保証は何がありますか。

2年間の限定保証を提供し、指定された操作条件における材料とプロセスをカバーします。保証期間は5年まで延長できます。保証範囲を維持するためには、給水品質記録と年間性能データが必要です。